Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO
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Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO

Garantie 2 ans

Points Forts du produit
  • Système PVD haute performance à faible coût
  • Conception à deux chambres pour le dépôt de deux matériaux différents en un seul processus
  • Système de rétroaction en boucle fermée pour un contrôle précis du processus de dépôt
  • Étage de substrat chauffé pour le dépôt de films à des températures élevées
  • Système de verrouillage de charge pour le chargement et le déchargement rapides des substrats


1 225,20 € TTC 1 021,00 € HT
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Description
Dans la boîte
  • 1 x Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO

Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO

Le Lynx Deuxième option d’entrée pour PVD 5840 O/DO/UO est un système de dépôt physique en phase vapeur (PVD) à haute performance et à faible coût conçu pour une variété d’applications, y compris le dépôt de couches minces pour les dispositifs optiques, électroniques et semi-conducteurs.

Fiche technique

Taille du substrat : Jusqu’à 200 mm

Vitesse de dépôt : Jusqu’à 10 nm/min

Épaisseur du film : Jusqu’à 10 µm

Matériaux de dépôt : Une grande variété de matériaux, y compris les métaux, les semi-conducteurs et les oxydes

Caractéristiques
OC-5840-SCND
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